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uv光解除臭设备强效应的技术特点

更新时间:2021-09-14 15:42    浏览:
uv光解除臭设备强效应的技术特点
 
uv光解除臭设备原理:在光照下,如果光子的能量大于半导体禁带宽度,其价带中的电子(e-)会被激发到导带,同时在价带中产生空穴(h+)。当有合适的捕集剂、表面缺陷或其他因素时,电子和空穴的复合将被抑制,氧化还原反应将在催化剂表面发生。价空穴是很好的氧化剂,而传导电子是很好的还原剂。在半导体光催化反应中,它们一般与吸附在表面的H2O和O2反应生成。OH和超氧离子O2-,可以直接将各种有机物氧化成CO2、H2O等无机小分子。电子也有很强的还原性,可以还原吸附在它们表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴可以复合产生热能或以其他形式耗散。
 
uv光解除臭设备的光催化技术特点:
 
1.低温深度反应:光催化氧化可以在室温下氧化空气中的有机污染物。
 
2.绿色能源:光催化可以利用太阳光作为能源,激活光催化剂,带动氧化还原反应,光催化剂在反应中不被消耗。从能量的角度来看,这一特性使得光催化技术更具优势。
 
3.强氧化性:大量研究表明,半导体光催化具有强氧化性的特点,能够有效分解一些臭氧难以氧化的有机物。
 
4.寿命长:理论上光触媒的寿命是无限长的。
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