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uv光解除臭设备除臭原理
作者:管理员    发布于:2017-09-30 08:22:56    文字:【】【】【
uv光解除臭设备除臭原理
 
现在我们的工业发展得很快,但随之而来的是很多问题,臭气是一个问题。为了保护我们的环境和生命的安全,我们工厂需要使用除臭剂设备。那么除臭剂的除臭剂原理是什么呢?
高能源、采用特殊高臭氧紫外线紫外线光束,恶臭,恶臭气体的变化如:氨、三甲胺、硫化氢,硫化氢、甲硫醇、硫醚、二甲二硫、苯、二硫化碳和硫磺H2S,挥发性有机化合物,分子链结构的苯、甲苯、二甲苯、有机或无机聚合物有气味的化合物分子链,在高能束暴露于太阳的紫外线,降解成低分子化合物,如二氧化碳、水等。
其次,利用高能紫外紫外线分解空气分子中的臭氧,产生游离氧,即活性氧,利用自由氧对电子正电子不平衡,需要与产生臭氧的氧气结合。UV+ O2,O -+O *(活性氧)O +O2 - O3(臭氧),众所周知,臭氧对有机物有很强的氧化作用,对气味和其他刺激性气味有直接的影响。
三、fetor使用排气设备输入净化设备,净化设备使用高能紫外紫外光和臭氧氧化反应的fetor协同分解,使其fetor材料降解为低分子化合物,水和二氧化碳,再次通过排气管外。
4。利用高能紫外光照射在恶臭气体中的细菌分子链,破坏细菌核酸(DNA),然后通过臭氧氧化反应,达到除臭杀灭细菌的目的。
公司自成立以来,与国内许多高等院校和科研单位水平国内外合作,取得了多项国家专利和实用新型专利,并翻译成技术产品领域的专业水平和成熟的技术环境保护,始终站在中国环保产业的前沿。